即將參展卻來不及申請專利,什麼都不做也可以?

「公開展出前來不及申請專利?」在創作開發的過程中,你可能忽略掉了時間上的安排,忽略了公開參展可能會讓你的創作產生缺陷。為什麼會有缺陷?大多數的國家為了公共利益及促進產業發展,一旦技術或創作公開,一定程度代表此創作可被接觸及或再利用。簡單來說:「見光死」。 故欲公開技術或創作之人,公開之前應三思而行、謀定後動。

申請專利前公開草圖,是否會影響申請專利的結果?

本篇文章將討論公開草圖,會不會導致專利權產生瑕疵。產品設計的過程中,設計師在概念發想(Idea Generation)及設計發想(Idea Visualization)的過程中扮演很重要的角色,在過程中所創造的草圖會有許多想法(Idea)的誕生,然而這些「想法」透過草圖(Sketches)的公開是否會對專利的有效性產生影響呢?換言之,若草圖的公開及外流,將來申請專利時是否會構成先前技術(Prior art),而破壞申請標的之新穎性(Novelty)或進步性/創作性(Non-obviousness)。〈本文暫不討論涉及優先權、優惠期及進步性等態樣〉