「公開展出前來不及申請專利？」在創作開發的過程中，你可能忽略掉了時間上的安排，忽略了公開參展可能會讓你的創作產生缺陷。為什麼會有缺陷？大多數的國家為了公共利益及促進產業發展，一旦技術或創作公開，一定程度代表此創作可被接觸及或再利用。簡單來說：「見光死」。 故欲公開技術或創作之人，公開之前應三思而行、謀定後動。

著作權法保護創作之成果，故作品是否受保護，應視其有無創作性，而與以何種工具創作無關，例如：使用偷來的筆進行創作，其創作成果還是有著作權。同理，使用盜版軟體為創作工具，其創作成果如若具有創作性，仍可以受著作權法保護。 創作是否受到著作權法保護，主要在於創作本身是否符合著作權法的規範。

本篇文章將討論公開草圖，會不會導致專利權產生瑕疵。產品設計的過程中，設計師在概念發想(Idea Generation)及設計發想(Idea Visualization)的過程中扮演很重要的角色，在過程中所創造的草圖會有許多想法(Idea)的誕生，然而這些「想法」透過草圖(Sketches)的公開是否會對專利的有效性產生影響呢？換言之，若草圖的公開及外流，將來申請專利時是否會構成先前技術(Prior art)，而破壞申請標的之新穎性(Novelty)或進步性/創作性(Non-obviousness)。〈本文暫不討論涉及優先權、優惠期及進步性等態樣〉

在網路時代之下，著作權侵權與商標侵權常同時發生，然而在商標權尚未取得的情況下，因無商標權之存在，要主張權利時，自需訴諸於著作權。然而，在著作權採創作主義的制度之下，創作人要拿出有力的證明，是相對困難的（尤其尚未進入訴訟階段時）。再者，若在某國家遇到商標侵權，但還未申請取得商標權的情況，將無力對抗；更甚者，或商標在該國無法證明其著名程度達到該國人民所知悉，將更容易受到侵害。