即將參展卻來不及申請專利,什麼都不做也可以?

「公開展出前來不及申請專利?」在創作開發的過程中,你可能忽略掉了時間上的安排,忽略了公開參展可能會讓你的創作產生缺陷。為什麼會有缺陷?大多數的國家為了公共利益及促進產業發展,一旦技術或創作公開,一定程度代表此創作可被接觸及或再利用。簡單來說:「見光死」。

故欲公開技術或創作之人,公開之前應三思而行、謀定後動。

  1. 原則:
◦      專利一旦參展即有公開事實,可能喪失專利要件而遭不准。
◦      展覽中所展示的原型、所販售的作品集、所發放的DM,都可能涉及專利法第22條第1項各款,而喪失專利要件
  1. 例外:
◦      台灣
▪      在展出後12個月內向智慧局提出申請,有優惠期(Grace period)適用。
▪      專利法第22條第3申請人出於本意非出於本意所致公開之事實發生後12個月內申請者,該事實非屬專利法第22條第1項各款或第2項不得取得發明專利之情事。現行無須檢附相關文件。
▪      並未限制國內外展覽
◦      美國
▪      與台灣規定相似,有12個月期間的優惠期。
▪      並未限制國內外展覽
◦      中國
▪      24条 申请专利的发明创造在申请日以前六个月内,有下列情形之一的,不丧失新颖性:
▪      ()在中国政府主办或者承认的国际展览会上首次展出的;
▪      ()在规定的学术会议或者技术会议上首次发表的;
▪      ()他人未经申请人同意而泄露其内容的。
◦      歐洲 
6個月以內有以下要件有優惠期:
▪      1)由於與該發明人/申請人有關的「明顯濫用(evident abuse)」所造成的公開。(例如:非申請人本意公開。其條件嚴苛難以證明)
▪      2)少數公開展示於官方所主辦或認可之國際展覽會。
◦      日本
▪      6個月以內,申請時需向特許廳檢附相關文件
  1. 可能的解決方案:
◦      申請美國臨時申請案(Provisional Application for Patent)事後再向台灣申請專利並主張巴黎公約優先權(Priority date),有12個月的時間在各國佈局。美國的臨時申請案不需要提供申請專利範圍,可以盡快取得一個申請日。
◦      展覽上可以避免揭露相關要申請專利的內容,做小程度的公開;調整型錄的公開內容;以及,避免被拍照、被攝影。
◦      如果無意進入其他國家市場,在台灣就放心參展並存留參展相關證據資料,於參展後12個月內申請台灣專利。但可能會有風險,因為常有後續因為市場反應或其他投資者因素而改變公司政策。
即將參展卻來不及申請專利,什麼都不做也可以? 1

「姓名標示─非商業性─禁止改作」授權條款臺灣3.0版
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Author

楊杰凱 專利師
2018.02.12

總承國際專利商標事務所|總承會計師事務所|主持專利師|商標代理人|國立清華大學工業工程管理學系|清大創新創業學分學程|華盛頓大學法學院法學碩士|接受新事物,突破舒適圈。主要提供公司成立及智財服務,從工商登記、商標設計、商標申請到專利申請。“Stay positive. Work hard. Make it happen.”

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